Tel.: +420 571 753 111
Fax: +420 571 753 884
Die epitaxische wird aus Siliziumblöcken mit dem Durchmesser von 100 und 150 mm hergestellt. Die epitaxische Platte ist zur Verwendung in der Halbleiterindustrie bestimmt. Epitaxe ist ein Prozess, wo auf das Substrat vom Siliziumblock eine andere Siliziumschicht – wieder aus Siliziumblöcken – aufgetragen wird.
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
1. Máje 2230
Rožnov pod Radhoštěm
756 61
Tschechische Republik
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.