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Die epitaxische wird aus Siliziumblöcken mit dem Durchmesser von 100 und 150 mm hergestellt. Die epitaxische Platte ist zur Verwendung in der Halbleiterindustrie bestimmt. Epitaxe ist ein Prozess, wo auf das Substrat vom Siliziumblock eine andere Siliziumschicht – wieder aus Siliziumblöcken – aufgetragen wird.
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